Компания Intel сообщила, что ее завод Fab 42, который был заложен еще в 2011 году, наконец вышел на запланированный уровень производства полупроводников. Завод выпускает новейшую продукцию компании на основе 10-нм технологического процесса.
Источник изображения: Intel
Теперь Intel может выпускать второе поколение 10-ти нм процессоров — Ice Lake, Ice Lake-SP, Elkhart Lake, Snow Ridge, а также третье поколение 10-ти нм чипов (SuperFin) — Tiger Lake и графические процессоры DG1 не только в Израиле и Орегоне, но и в Аризоне, на новой фабрике Fab 42. Запуск третьего завода, способного производить 10нм продукцию в больших объемах, позволит компании значительно увеличить поставки этих решений.
Intel обычно не раскрывает возможности своих заводов, но в данном случае было сказано, что Fab 42 станет частью новой сети компаний. Обычно заводы такого масштаба способны производить от 25 до 100 тыс. кремниевых пластин в месяц. Однако конечный объем зависит от выбранного производственного процесса.
По данным Intel, в общей сложности она инвестировала более 23 миллиардов долларов в открытие фабрики в Аризоне. В настоящее время там работают 12 000 сотрудников. У фабрики довольно интересная история. Крупнейший производитель процессоров заложил ее еще в 2011 году. В то время перспективы производства кремниевых пластин с использованием ультратвердой ультрафиолетовой литографии (EUV) были неопределенными, поэтому компания рассчитывала использовать завод для производства крупных 450-миллиметровых пластин. По этим расчетам завод был оснащен.
Строительство завода и его первоначального оборудования с вытяжками и системами кондиционирования воздуха было завершено в 2013 году. Однако в начале 2014 года Intel решила не оснащать завод по производству на тот момент передовой 14-нм полупроводниковой продукции, так как не была уверена в уровне спроса на нее. В начале 2017 года компания объявила о своем желании инвестировать 7 млрд долларов в оснащение завода Fab 42 оборудованием для производства 7-нм чипов. Со временем Intel поняла, что ей не хватает мощностей для производства 10-нм продукции, поэтому завод был переоборудован под этот производственный процесс. В то же время компания сохранила возможность использовать Fab 42 в качестве линии для производства продукции на основе 7нм процесса, который предполагает использование литографии в глубоком ультрафиолетовом (DUV) и ультрафиолетовом ультрафиолетовом излучении (EUV).
