Компанія Intel повідомила, що її завод Fab 42, який був закладений ще в 2011 році, нарешті вийшов на запланований рівень виробництва напівпровідників. Завод випускає новітню продукцію компанії на основі 10-нм технологічного процесу.
Джерело зображення: Intel
Тепер Intel може випускати друге покоління 10-ти нм процесорів — Ice Lake, Ice Lake-SP, Elkhart Lake, Snow Ridge, а також третє покоління 10-ти нм чіпів (SuperFin) — Tiger Lake і графічні процесори DG1 не тільки в Ізраїлі та Орегоні, але і в Арізоні, на новій фабриці Fab 42. Запуск третього заводу, здатного виробляти 10нм продукцію у великих обсягах, дозволить компанії значно збільшити поставки цих рішень.
Intel зазвичай не розкриває можливості своїх заводів, але в даному випадку було сказано, що Fab 42 стане частиною нової мережі компаній. Зазвичай заводи такого масштабу здатні виробляти від 25 до 100 тис.Кремнієвих пластин на місяць. Однак кінцевий обсяг залежить від обраного виробничого процесу.
За даними Intel, в цілому вона інвестувала більше 23 мільярдів доларів у відкриття фабрики в Арізоні. В даний час там працюють 12 000 співробітників. У фабрики досить цікава історія. Найбільший виробник процесорів заклав її ще в 2011 році. У той час перспективи виробництва кремнієвих пластин з використанням ультратвердої ультрафіолетової літографії (EUV) були невизначеними, тому компанія розраховувала використовувати завод для виробництва великих 450-міліметрових пластин. За цими розрахунками завод був оснащений.
Будівництво заводу і його початкового обладнання з витяжками і системами кондиціонування повітря було завершено в 2013 році. Однак на початку 2014 року Intel вирішила не оснащувати завод з виробництва на той момент передової 14-нм напівпровідникової продукції, так як не була впевнена в рівні попиту на неї. На початку 2017 року компанія оголосила про своє бажання інвестувати 7 млрд доларів в оснащення заводу Fab 42 обладнанням для виробництва 7-нм чіпів. З часом Intel зрозуміла, що їй не вистачає потужностей для виробництва 10-нм продукції, тому завод був переобладнаний під цей виробничий процес. У той же час компанія зберегла можливість використовувати Fab 42 в якості лінії для виробництва продукції на основі 7нм процесу, який передбачає використання літографії в глибокому ультрафіолетовому (DUV) і ультрафіолетовому ультрафіолетовому випромінюванні (EUV).
